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高真空多靶鍍膜系統(tǒng) JCPY500品牌
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高真空多靶鍍膜系統(tǒng) JCPY500 真空濺射腔室:Ф500×H500mm; 濺射室:8.0×10-5Pa(空載,經(jīng)烘烤除氣后); 工作方式:各靶可獨(dú)立/順次/共同工作,采用磁控靶從上向下濺射鍍膜; 脈沖偏壓:-1000V,1套;
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