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化學(xué)氣相沉積設(shè)備品牌
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化學(xué)氣相沉積設(shè)備 基片臺尺寸：Φ200mm; 電源:RF 500W; 真空腔室結(jié)構(gòu)：立式上開蓋結(jié)構(gòu)； 真空腔室尺寸：Φ350×H300mm；
化學(xué)氣相沉積設(shè)備產(chǎn)品概述 1.適用范圍：化學(xué)氣相沉積設(shè)備適用于各單位實驗室、高校實驗室、教學(xué)等項目的科研、產(chǎn)品中試。 2.產(chǎn)品優(yōu)點及特點：適用于硬涂層等膜的制備，以及等離子體的清洗。 3.主要用途:化學(xué)氣相沉積設(shè)備主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介電、金屬膜。
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