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真空腔室尺寸：立式前開門結構，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷； 真空腔室尺寸：Φ600×H500mm； 基片臺尺寸：Φ200mm； 襯底溫度：600~1100℃；    產(chǎn)品概述： 1.適用范圍：適用于各單位實驗室、高校實驗室、教學等項目的科研、產(chǎn)品中試。 2.產(chǎn)品優(yōu)點和特點：熱絲金剛石設備采用熱絲化學氣相沉積技術，已應用于國內許多熱絲生產(chǎn)線。該設備生產(chǎn)了大型片狀多晶金剛石厚膜，取得了相當大的經(jīng)濟效益。熱絲金剛石設備適用于工業(yè)生產(chǎn)、科研、教學和產(chǎn)品試驗。 3.主要用途:用于生長毫米級金剛石厚膜、金剛石薄膜、類金剛石薄膜、氮化硅和氧化硅薄膜。納米金剛石薄膜和微晶金剛石薄膜沉積在切割工具、鉆頭、絲錐等表面。也可以制備硼金剛石電極、BBD電極和金剛石電極膜。 參數(shù)：