公司介紹
澤攸科技成立于2016年，擁有安徽、北京、上海和東莞四家分公司，是一家具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的精密儀器高科技公司。公司專注于掃描電鏡、原位測量系統(tǒng)、臺階儀、探針臺、電子束光刻機等精密設(shè)備的研究，填補了國家在科學(xué)精密儀器領(lǐng)域的諸多空白。人才是企業(yè)的核心競爭力和發(fā)展的驅(qū)動力。澤攸科技于20世紀90年代便開啟電子顯微鏡及相關(guān)原位附件的研發(fā)，已逐步打造成為科學(xué)精密儀器領(lǐng)域人才聚集地?，F(xiàn)有員工200多人，其中院士、專家團隊20余人，擁有精通機械、光學(xué)、超高真空、電子技術(shù)、微納加工技術(shù)、軟件開發(fā)技術(shù)的專業(yè)團隊。為解決行業(yè)內(nèi)“卡脖子”難題，企業(yè)全力培養(yǎng)人才，重視產(chǎn)學(xué)研用合作，并與十幾家高校及科研院所建立了長期
主推產(chǎn)品
場發(fā)射掃描電鏡產(chǎn)品介紹：ZEMUltra臺式掃描電鏡采用肖特基場發(fā)射電子源，三級獨立真空設(shè)計，優(yōu)于2.5nm的分辨率滿足多數(shù)樣品微納結(jié)構(gòu)表征需求。標配大束流及大樣品倉，支持原位功能樣品臺及EDS/EBSD拓展。
澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術(shù)設(shè)備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉(zhuǎn)移電路圖形，而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光，形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。技術(shù)特點▲納米壓電位移臺拼接技術(shù)▲紅光引導(dǎo)曝光，所見即所得▲OPC修正算法優(yōu)化圖形質(zhì)量▲CCD相機逐場自動聚焦▲灰度勻光技術(shù)光路遠離結(jié)構(gòu)圖主要指標應(yīng)用案例
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）采用場發(fā)射電子槍，配合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)實現(xiàn)對半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統(tǒng)標配高精度激光干涉樣品臺，允許用戶實現(xiàn)大行程高精度拼接和套刻需求，在新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。產(chǎn)品特色▲激光干涉樣品臺：先進的激光干涉樣品臺，滿足大行程高精度拼接和套刻需求▲場發(fā)射電子槍：高分辨場發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證▲圖形發(fā)生器：在保證超高速掃描的同時實現(xiàn)超高分辨率圖案繪制樣品臺指標▲標配：激光干涉樣品臺▲樣品臺行程：≥105mm▲拼接精度：優(yōu)于50nm（平均值+1σ）▲套刻精度：優(yōu)于50nm（平均值+1σ）電
國產(chǎn)臺式場發(fā)射掃描電子顯微鏡
面議無掩膜光刻機
面議電子束光刻機
面議組合推薦產(chǎn)品
最新動態(tài)
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壓電超聲電機（USM）利用壓電材料的逆壓電效應(yīng)，通過高頻結(jié)構(gòu)振動共振模式實現(xiàn)驅(qū)動，具有無齒輪直驅(qū)、響應(yīng)迅速、定位精度高、斷電自鎖、無電磁干擾以及易于微型化等顯著優(yōu)勢，因此在高精度微機電系統(tǒng)、生物醫(yī)療設(shè)備、機器人手臂、顯微鏡平臺和精密手術(shù)器械等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。這類電機能夠?qū)崿F(xiàn)高達每秒數(shù)米的運行速度，遠超其他類型的壓電電機，如慣性電機、尺蠖電機等。盡管其高速性能優(yōu)異，但當需要在極低速度下進行
隨著傳統(tǒng)馮·諾依曼結(jié)構(gòu)逐漸暴露出處理速度和能效的瓶頸，仿生神經(jīng)形態(tài)計算成為重要的替代路徑。在諸多候選器件中，憶阻器因具備非易失性、結(jié)構(gòu)簡單、功耗低和可擴展性強等優(yōu)勢，被視為人工突觸的理想實現(xiàn)方式。尤其是電阻式隨機存取存儲器（RRAM），通過調(diào)控絕緣層中離子的遷移實現(xiàn)電阻狀態(tài)的可逆切換，極大地契合了突觸權(quán)重調(diào)節(jié)的特性，因此在神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)和存儲應(yīng)用中展現(xiàn)出巨大潛力。為進一步提升憶阻器的均一性與可靠性，研究
近日，浙江大學(xué)張澤院士、王江偉研究員團隊作為第一單位在《Nat. Commun.》上發(fā)表了題為《In situ atomistic observation of disconnection-mediated grain boundary migration》的研究成果(NAT.COMMUN.|(2019)10:156)。研究者們在透射電鏡中利用PicoFemto?原位力學(xué)-電學(xué)樣品桿巧妙地設(shè)計實驗
近日，蘇州科技大學(xué)作為第一單位，在《Inorg. Chem.》上發(fā)表了題為《Exploration of CeO2?CuO Quantum Dots in Situ Grown on Graphene under Hypha Assistance for Highly Efficient Solar-Driven Hydrogen Production》（DOI: 10.1021/acs.inor
近日，澳大利亞昆士蘭理工大學(xué)作為第一單位，在《NanoLetters》上發(fā)表了題為《Mechanical, Electrical, and Crystallographic Property Dynamics of Bent and Strained Ge/Si Core?Shell Nanowires As Revealed by in situ Transmission Electron Mi
歡迎到原位分會場與我們交流。屆時，我們會有資深原位電鏡專家和工程師在現(xiàn)場向您介紹最新、最全的原位電子顯微鏡技術(shù)。
7月31日，《Angew.Chem.Int.Ed.》期刊以“Air stable lithium spheres produced by electrochemical plating”(10.1002/anie.201807355)為題再次報道了澤攸科技的PicoFemto系列原位樣品桿在TEM中原位制備和測量鋰電池電極的相關(guān)應(yīng)用。文中通過電鍍法在球差校正環(huán)境透射電鏡中制備出可在空氣中穩(wěn)定的金屬
5月18日，北京交通大學(xué)王熙教授（通訊作者）團隊的楊一君博士（第一作者）以及天津理工大學(xué)劉喜正（共同一作）副教授、中科院化學(xué)研究所姚建年院士、國際電鏡大牛Yoshio Bando、Dmitri Golberg等人在國際頂級期刊上發(fā)表了“The Role of Geometric Sites in 2D Materials for Energy Storage”的綜述。文章詳細探討了二維納米材料中的
解決方案
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上一期里我們對幾種不同種類的巖石在特定作用下的破壞特征進行了表征，感興趣的同學(xué)可以閱讀《從宏觀到微觀——澤攸科技ZEM系列臺式掃描電鏡在巖石分析中的應(yīng)用》。巖石是地球表層和地殼的基本組成物質(zhì)，其成因和成巖過程復(fù)雜多樣，巖石的元素組成特征也是揭示其成因的重要手段。本期我們選取了大理巖、花崗巖、砂巖和石灰?guī)r等典型巖石類型，并利用ZEM系列臺式掃描電鏡和EDS能譜儀對其元素組成進行分析，旨在揭示不同巖石
冰是水在自然界中的固體形態(tài)，在大自然中也廣泛存在，冰的結(jié)構(gòu)及形成機理研究對云物理及低溫儲存物理至關(guān)重要，因此科學(xué)家們對冰的研究也歷史久遠。提到冰在較小尺度的存在形態(tài)，我們最容易想到的是雪花。如下圖所示，雪花具有明顯的六重對稱性，因為冰在大自然中多以六方相（Ice Ih）存在。Fig.1 雪花的照片（圖片來源于網(wǎng)絡(luò)）如果我們查閱文獻，就會發(fā)現(xiàn)科學(xué)家們對冰的結(jié)構(gòu)表征以能夠提供空間平均信息的衍射技術(shù)居多
安徽澤攸科技有限公司是一家具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的科學(xué)儀器公司， 自20世紀90年代開始投入電鏡及相關(guān)附件研發(fā)以來，研發(fā)團隊一直致力于為納米科學(xué)研究提供優(yōu)秀的儀器。目前，公司有包括PicoFemto系列原位TEM測量系統(tǒng)、原位SEM測量系統(tǒng)、ZEM系列臺式掃描電鏡、JS系列臺階儀、納米位移臺、二維材料轉(zhuǎn)移臺、探針臺及低溫系統(tǒng)、光柵尺等在內(nèi)的多個產(chǎn)品線，在國內(nèi)外均獲得了高度關(guān)注，填補了國家在科學(xué)精密儀
ZEM18作為澤攸科技自主研發(fā)的高分辨臺式掃描電子顯微鏡，在半導(dǎo)體領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。典型案例如下:【晶圓缺陷檢測】利用ZEM18電鏡直接成像觀察晶圓表面，可以清晰展現(xiàn)出微小劃痕、顆粒污染等各類缺陷情況。根據(jù)圖像結(jié)果判斷缺陷源頭，以優(yōu)化制程，提高生產(chǎn)良率?！竟饪坦に嚈z測】使用ZEM18電鏡可以在微米量級直接刻畫光刻膠層的側(cè)壁形貌及斷口形態(tài)。幫助評估光刻質(zhì)量與曝光量效應(yīng)，優(yōu)化曝光量設(shè)置?！窘饘倩ミB觀
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上一期里我們對幾種不同種類的巖石在特定作用下的破壞特征進行了表征，感興趣的同學(xué)可以閱讀《從宏觀到微觀——澤攸科技ZEM系列臺式掃描電鏡在巖石分析中的應(yīng)用》。巖石是地球表層和地殼的基本組成物質(zhì)，其成因和成巖過程復(fù)雜多樣，巖石的元素組成特征也是揭示其成因的重要手段。本期我們選取了大理巖、花崗巖、砂巖和石灰?guī)r等典型巖石類型，并利用ZEM系列臺式掃描電鏡和EDS能譜儀對其元素組成進行分析，旨在揭示不同巖石
2025-07-04
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