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產(chǎn)品摘要

PD-400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備可配置4-6組蒸發(fā)源（可使用絲狀源與舟狀源），兼容金屬材料蒸發(fā)與有機(jī)材料蒸發(fā)（有機(jī)材料蒸發(fā)使用鎢籃與坩堝組合的蒸發(fā)源）。可用來制備金屬膜、有機(jī)膜及掃描電鏡制樣等。廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，特別適合OPV 鈣鈦礦無機(jī)薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體、OLED顯示研究與開發(fā)領(lǐng)域。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★性能**的蒸發(fā)電源；保證工藝穩(wěn)定性及高重復(fù)性

★專業(yè)真空蒸發(fā)電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可以預(yù)先設(shè)置，可實(shí)現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能

★系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏操作，整體美觀操作簡單，自動化程度高

★襯底可選擇加熱或水冷，源基距**350mm

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸（L×W×Hmm)：350×350×450

設(shè)備尺寸（L×W×Hmm)：850×1100×1900

★真空極限：優(yōu)于（5E﹣05）Pa

抽速保壓：（8E﹣04）≤30min保壓12小時≤5pa

★膜厚均勻性優(yōu)異（±3％~±5%），重復(fù)性優(yōu)異（±3％~±5%）

★基片臺：120mm×120mm

★蒸發(fā)源：可搭配4～6組蒸發(fā)源（兼容金屬與有機(jī)），可共蒸或切換蒸發(fā)