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產(chǎn)品摘要

該設(shè)備采用熱絲法化學(xué)氣相沉積技術(shù)，主要用來生長(zhǎng)金剛石膜、類金剛石膜、氮化硅和氧化硅膜等。該設(shè)備適合于小批量生長(zhǎng)大尺寸片狀多晶金剛石厚膜、刀具表面生長(zhǎng)金剛石膜、納米金剛石膜等。

產(chǎn)品介紹

設(shè)備特點(diǎn)：

★升降結(jié)構(gòu)平穩(wěn)，樣品臺(tái)水平度好，利于生長(zhǎng)較均勻厚膜絲架采用特殊結(jié)構(gòu)，熱絲的平行度好能長(zhǎng)期穩(wěn)定工作

★更合理的氣路布局及更貼合生產(chǎn)工藝的細(xì)節(jié)考慮，可長(zhǎng)期穩(wěn)定工作

★軟件配置西門子PLC+10寸西門子觸摸顯示屏，操作界面友好，所有操作均可在觸摸屏上完成

★實(shí)現(xiàn)φ100-300mm基片范圍內(nèi)均勻沉積

設(shè)備參數(shù)：

★腔體尺寸：φ450×H350mm/φ650×H500mm

★基片臺(tái)：150mmx150mm/200mmx200mm

★溫度：熱絲溫度1800℃-2500℃襯底溫度600℃-1000℃,電源型式專用熱絲電源15/25kw