參考價(jià)格
面議型號(hào)
PD-60/80MP微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備品牌
普迪真空產(chǎn)地
湖北樣本
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產(chǎn)品摘要
微波等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備具有性能先進(jìn)、功能完善、結(jié)構(gòu)合理,使用方便、安全可靠、外形美觀,特別適合應(yīng)用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積(CVD);材料表面處理和改性;低溫氧化物的生長(zhǎng)等領(lǐng)域。
產(chǎn)品介紹
設(shè)備特點(diǎn):
★微波系統(tǒng)微波頻率2450±25MHz 微波泄漏≤2 mw/cm2
★真空系統(tǒng)工作氣壓范圍0~250Torr,自動(dòng)穩(wěn)壓范圍40~250Torr
★氣路系統(tǒng)自帶四路MFC,可擴(kuò)展至六路
★自帶缺水,缺氣,電源缺相,等離子體偏移,過溫過載,打火等自動(dòng)保護(hù),生產(chǎn)流程通過工藝配方自動(dòng)控制,全自動(dòng)溫度控制,氣壓控制等
★軟件配置西門子PLC+10寸西門子觸摸顯示屏,所有操作均可在觸摸屏上完成
設(shè)備參數(shù):
★輸出功率:0.6kw~6kw /0.6kw~15kw 連續(xù)可調(diào)
★生長(zhǎng)臺(tái):沉積臺(tái)為80mm,高度為110mm/沉積臺(tái)為100mm,高度為110mm
★基片臺(tái):電動(dòng)升降式水冷直徑80mm鉬基片臺(tái)直徑≥50mm/電動(dòng)升降式水冷直徑100mm鉬基片臺(tái)直徑≥75mm
暫無數(shù)據(jù)!