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納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱：納米超硬涂層設(shè)備
設(shè)備型號：GDM900
真空腔室尺寸：Φ900mm×H930mm
真空系統(tǒng)：國產(chǎn) / 進(jìn)口分子泵 + 羅茨泵 + 機(jī)械泵高真空系統(tǒng)
極限真空：優(yōu)于 8.0×10-5Pa
抽速：從大氣到 5.0×10-3Pa ≤ 25min 升壓率關(guān)機(jī) 12 小時后真空度≤ 10Pa
工件架尺寸：8 ～ 12 工位，3 軸聯(lián)動工件架二套；配專用工件車
工件烘烤溫度：室溫～ 500℃，可調(diào)可控（PID 控溫）
配置：新型弧源 6-12 只可選、離子源、偏壓
系統(tǒng)：全自動控制系統(tǒng)，個性化的 Tech-Coating 控制菜單，安全保護(hù)系統(tǒng)
占地面積：L4000mm×W3000mm
該設(shè)備可制備TiN\CrN\AlCrN\ZrN\TiC\TiCN\TiAlN\TiAlCN\DLC膜等，非常適合生產(chǎn)企業(yè)大批量在刀具（鉆頭、銑刀、拉刀、絲錐、滾齒刀、車刀、刀粒等）、高精工模具（沖壓模具、剪切模具、成型模具、注塑模具等）及其他關(guān)鍵部件上鍍制單層/多層硬質(zhì)涂層、耐腐蝕涂層等功能薄膜。
設(shè)備采用全自動的控制方式，先進(jìn)的工藝流程控制模式，性能穩(wěn)定可靠，操作簡單方便。并集成先進(jìn)的新型弧源鍍膜技術(shù)和離子輔助前處理鍍膜技術(shù)，可鍍高質(zhì)量、成膜致密、結(jié)合力好、硬度高的硬質(zhì)涂層，大幅度提高工具及刀具使用壽命。該設(shè)備集成國際**技術(shù)，性能國內(nèi)**。
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迎中秋，慶國慶中秋佳節(jié)和國慶節(jié)都是中國傳統(tǒng)的重要節(jié)日。中秋節(jié)是表達(dá)親情、團(tuán)圓和感恩之情的日子，國慶節(jié)則是紀(jì)念祖國的生日和慶祝人民的幸福生活。今年，中秋與國慶相繼而至，也是一次雙節(jié)連假。人們在這段時間，
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng)，碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成膜先驅(qū)物，當(dāng)樣品溫度合適時，這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。CV
在薄膜材料制備技術(shù)中，原子層沉積（ALD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）是兩種被廣泛應(yīng)用的核心技術(shù)。盡管二者均通過氣相前驅(qū)體的化學(xué)反應(yīng)實現(xiàn)薄膜生長，但在工藝機(jī)制、控制精度、反應(yīng)條件及應(yīng)用場景等方面存在本質(zhì)差
在材料表面改性和薄膜制備技術(shù)的廣闊領(lǐng)域中，磁控濺射技術(shù)以其獨特的優(yōu)勢和廣泛的應(yīng)用，成為了現(xiàn)代材料科學(xué)與工程領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一。從微電子器件中精密的金屬電極薄膜，到光學(xué)領(lǐng)域中提升光學(xué)元件性能的增透膜、低
在真空技術(shù)領(lǐng)域，單位換算和計算公式是進(jìn)行相關(guān)工作的基礎(chǔ)。準(zhǔn)確掌握這些知識，對于真空系統(tǒng)的設(shè)計、運行、檢測等環(huán)節(jié)都至關(guān)重要。下面將詳細(xì)介紹常用的真空單位換算及17個真空常用計算公式。常用的真空單位換算真
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