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PVD大面積磁控鍍膜設(shè)備JCPF2600
PVD大面積磁控鍍膜設(shè)備JCPF2600

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

PVD大面積磁控鍍膜設(shè)備JCPF2600

品牌

北京泰科諾

產(chǎn)地

北京

樣本

暫無(wú)
北京泰科諾科技有限公司

鉆石會(huì)員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

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設(shè)備名稱:PVD大面積磁控鍍膜設(shè)備

設(shè)備型號(hào):JCPF2600

鍍膜方式:磁控濺射

真空腔室結(jié)構(gòu):SUS304 方箱式

真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm

極限真空:優(yōu)于 5.0x10-5Pa

基片臺(tái)尺寸:300mmx400mm向下兼容300mmx300mm

基片溫度:常溫

濺射靶:矩形平面靶1套,旋轉(zhuǎn)柱狀靶2套

控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )

占地面積:15000mmx5000mm

供電總功率:≥ 20kW 三相五線制

1. 大面積,復(fù)合型,批量制備,潔凈真空不同功能復(fù)合涂層制備,可獲得更高電池轉(zhuǎn)換效率;

2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦空穴傳輸層及金屬背電極等膜層的制備;

3. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計(jì)優(yōu)化,性價(jià)比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;


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10分

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10分

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