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面議型號(hào)
PVD大面積磁控鍍膜設(shè)備JCPF2600品牌
北京泰科諾產(chǎn)地
北京樣本
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設(shè)備名稱:PVD大面積磁控鍍膜設(shè)備
設(shè)備型號(hào):JCPF2600
鍍膜方式:磁控濺射
真空腔室結(jié)構(gòu):SUS304 方箱式
真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm
極限真空:優(yōu)于 5.0x10-5Pa
基片臺(tái)尺寸:300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片溫度:常溫
濺射靶:矩形平面靶1套,旋轉(zhuǎn)柱狀靶2套
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積:15000mmx5000mm
供電總功率:≥ 20kW 三相五線制
1. 大面積,復(fù)合型,批量制備,潔凈真空不同功能復(fù)合涂層制備,可獲得更高電池轉(zhuǎn)換效率;
2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦空穴傳輸層及金屬背電極等膜層的制備;
3. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計(jì)優(yōu)化,性價(jià)比高,性能穩(wěn)定,使用維護(hù)成本低;
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迎中秋,慶國(guó)慶中秋佳節(jié)和國(guó)慶節(jié)都是中國(guó)傳統(tǒng)的重要節(jié)日。中秋節(jié)是表達(dá)親情、團(tuán)圓和感恩之情的日子,國(guó)慶節(jié)則是紀(jì)念祖國(guó)的生日和慶祝人民的幸福生活。今年,中秋與國(guó)慶相繼而至,也是一次雙節(jié)連假。人們?cè)谶@段時(shí)間,
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應(yīng),碳?xì)浠衔镌诟邷叵掳l(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成膜先驅(qū)物,當(dāng)樣品溫度合適時(shí),這些膜先驅(qū)物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學(xué)氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻,膜層致密。CV
在薄膜材料制備技術(shù)中,原子層沉積(ALD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)是兩種被廣泛應(yīng)用的核心技術(shù)。盡管二者均通過(guò)氣相前驅(qū)體的化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)薄膜生長(zhǎng),但在工藝機(jī)制、控制精度、反應(yīng)條件及應(yīng)用場(chǎng)景等方面存在本質(zhì)差
在材料表面改性和薄膜制備技術(shù)的廣闊領(lǐng)域中,磁控濺射技術(shù)以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)和廣泛的應(yīng)用,成為了現(xiàn)代材料科學(xué)與工程領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一。從微電子器件中精密的金屬電極薄膜,到光學(xué)領(lǐng)域中提升光學(xué)元件性能的增透膜、低
在真空技術(shù)領(lǐng)域,單位換算和計(jì)算公式是進(jìn)行相關(guān)工作的基礎(chǔ)。準(zhǔn)確掌握這些知識(shí),對(duì)于真空系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、運(yùn)行、檢測(cè)等環(huán)節(jié)都至關(guān)重要。下面將詳細(xì)介紹常用的真空單位換算及17個(gè)真空常用計(jì)算公式。常用的真空單位換算真