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Primo iDEA?雙反應(yīng)臺刻蝕除膠一體機
Primo iDEA?雙反應(yīng)臺刻蝕除膠一體機

參考價格

面議

型號

Primo iDEA?雙反應(yīng)臺刻蝕除膠一體機

品牌

中微公司

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無
中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司

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第1年

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Primo iDEA?(即“雙反應(yīng)臺刻蝕除膠一體機”)源于中微的一個新理念,即:將一個或兩個雙反應(yīng)臺D-RIE或AD-RIE工藝模塊、和一個遠(yuǎn)程等離子體源除膠器(DsA)反應(yīng)腔整合在同一個平臺上。中微的遠(yuǎn)程等離子體源除膠器采用了雙反應(yīng)臺腔體設(shè)計,頂置的遠(yuǎn)程等離子體源(RPS)產(chǎn)生的活性反應(yīng)物質(zhì),被均勻地輸送到晶圓表面以移除光刻膠。這種方法能夠提高光刻膠移除效率,并降低等離子體直接接觸晶圓的機會。這對于一些客戶來說尤為重要,其芯片器件對表面電荷極其敏感,存在等離子體誘發(fā)損傷(PID)的潛在風(fēng)險。為了解決這方面的顧慮,客戶通常要付出巨大的人力和物力修改整合方案,或者為每個步驟(例如光刻膠移除)添置專用設(shè)備。擁有Primo iDEA整合系統(tǒng)后,客戶可以在同一個平臺上靈活地進(jìn)行芯片刻蝕和光刻膠移除,顯著減少設(shè)備占地面積,提高生產(chǎn)效率。Primo iDEA提供了具有成本優(yōu)勢的解決方案。

Primo iDEA?

為芯片刻蝕和光刻膠移除提供創(chuàng)新的整合解決方案

產(chǎn)品特點

遠(yuǎn)程等離子體源

高效率除膠

高效離子隔濾,以避免對器件造成等離子體誘發(fā)損傷

競爭優(yōu)勢

雙反應(yīng)臺刻蝕與除膠整合一體機,顯著減小占地面積

使用Primo iDEA?系統(tǒng)設(shè)計以代替單獨的刻蝕和除膠系統(tǒng),節(jié)省成本20%以上


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