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Primo iDEA?雙反應(yīng)臺刻蝕除膠一體機品牌
中微公司產(chǎn)地
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Primo iDEA?（即“雙反應(yīng)臺刻蝕除膠一體機”）源于中微的一個新理念，即：將一個或兩個雙反應(yīng)臺D-RIE或AD-RIE工藝模塊、和一個遠(yuǎn)程等離子體源除膠器（DsA）反應(yīng)腔整合在同一個平臺上。中微的遠(yuǎn)程等離子體源除膠器采用了雙反應(yīng)臺腔體設(shè)計，頂置的遠(yuǎn)程等離子體源（RPS）產(chǎn)生的活性反應(yīng)物質(zhì)，被均勻地輸送到晶圓表面以移除光刻膠。這種方法能夠提高光刻膠移除效率，并降低等離子體直接接觸晶圓的機會。這對于一些客戶來說尤為重要，其芯片器件對表面電荷極其敏感，存在等離子體誘發(fā)損傷（PID）的潛在風(fēng)險。為了解決這方面的顧慮，客戶通常要付出巨大的人力和物力修改整合方案，或者為每個步驟（例如光刻膠移除）添置專用設(shè)備。擁有Primo iDEA整合系統(tǒng)后，客戶可以在同一個平臺上靈活地進(jìn)行芯片刻蝕和光刻膠移除，顯著減少設(shè)備占地面積，提高生產(chǎn)效率。Primo iDEA提供了具有成本優(yōu)勢的解決方案。
為芯片刻蝕和光刻膠移除提供創(chuàng)新的整合解決方案
遠(yuǎn)程等離子體源 高效率除膠 高效離子隔濾，以避免對器件造成等離子體誘發(fā)損傷產(chǎn)品特點
雙反應(yīng)臺刻蝕與除膠整合一體機，顯著減小占地面積 使用Primo iDEA?系統(tǒng)設(shè)計以代替單獨的刻蝕和除膠系統(tǒng)，節(jié)省成本20%以上競爭優(yōu)勢
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