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VSP-P1品牌
VSParticle產地
荷蘭樣本
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VSP-P1 納米顆粒印刷沉積設備基于電火花燒蝕技術產生納米顆粒，同時搭載印刷沉積技術，可實現圖案化印刷沉積、電極印刷沉積、傳感器印刷沉積等多功能應用。質量標準：
最大打印區(qū)域：15 x 15 cm純度：
涂層厚度：稀疏的團族(100 nm)到幾pm目數：
打印尺寸精度 10 微米品級：
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VSParticle-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)
氣溶膠納米噴印
納米印刷是柔性電子領域重要的區(qū)域性沉積技術， VSP-P1 采用特別的氣溶膠沖壓沉積技術，將原材料通過火花燒蝕的方式轉變成納米級氣溶膠顆粒，并在真空系統(tǒng)配合下實現圖案的繪制。該方法避免了傳統(tǒng)噴墨打印需要導電油墨以及后續(xù)熱處理去除油墨的弊端，保證圖案的納米結構較大程度的保留，避免產生氣孔等缺陷。
運行原理
氣溶膠顆粒會通過火花燒蝕的方式在前端產生，顆粒經由惰性氣體帶動運輸至噴嘴處，經過真空系統(tǒng)作用，腔室的氣壓會保持在 10mbar 以下，而經由噴嘴噴出的氣溶膠會在基底表面沖壓沉積。而利用 XYZ 軸控制噴嘴的移動，即可實現圖案的繪制。
利用該方法，可輕松實現：
1. 金屬，合金，氧化物顆粒的印刷沉積
2. 無添加劑，無廢液
3. 一步沉積，設備模塊化，前端的氣溶膠發(fā)生器可獨立拆卸工作，進行其它方向的納米研究
4. 顆粒初始粒徑可保持在 0-20nm 之間，形成多孔結構
應用領域
· 高通量合金催化劑的篩選
利用氣溶膠噴印在多個通道打印沉積比例不同的合金催化劑，從而快速考查電催化性能。該方法可用于在工業(yè)相關電流密度下的流體力學條件下制備和篩選電極材料，可用于確定**催化劑和催化劑制備的穩(wěn)健性。Ni / Fe 的復合電極被用于進行驗證，64 個不同比例的催化陽極電極在快速篩選后可得到反應電位的變化。
SERS
表面增強拉曼光譜需要精細的 Au, Ag 等納米結構，從而實現對低信號量化學物質的靈敏檢測。利用氣溶膠噴印技術在基底表面快速繪制納米圖案，進行拉曼光譜檢測。這種方法避免添加劑對檢測的干擾，在較低的溫度處理后便可進行后續(xù)檢測。
納米印刷結構
在對羅丹明 6G，PMBA，三聚氰胺的檢測中，標準基片表現出了優(yōu)異的信號增強性能。
氣體傳感器
金屬氧化物 (MOX) 氣體傳感器通過半導體金屬氧化物薄膜的電阻變化來檢測氣體，但氧化物涂層需要溫和的沉積，故而常用的 PVD 與 CVD 手段均不適用?，F有方法為利用溶膠凝膠法結合絲網印刷實現區(qū)域的沉積。利用氣溶膠噴印直寫可以實現精準的印刷沉積，避免熱處理。
VSP-P1 納米印刷沉積設備采用干法氣溶膠沉積技術，無需添加化學劑，可快速沉積合金或多相納米顆粒。
2020-12-09
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2020-12-21
2020-12-21
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