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背面清洗設備
背面清洗設備

參考價格

面議

型號

背面清洗設備

品牌

盛美半導體

產(chǎn)地

美國

樣本

暫無
盛美半導體設備（上海）股份有限公司

會員

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主要優(yōu)勢

由伯努利夾盤對晶圓背面進行全面保護

藥液回收功能可降低成本

可集成氮氣二流體清洗功能

可靈活應用于濕法刻蝕工藝，如硅蝕刻及薄膜蝕刻工藝

先進的噴嘴掃描系統(tǒng)

精密的濕法刻蝕均勻度控制

精密的化學藥液供給

可靈活應用于多種襯底材料，包括重摻雜片、Bonding 片、超薄片等


特征規(guī)格

*多可配至8套清洗腔體

配備晶圓翻轉單元

*多可配至5種藥液進行清洗工藝或者濕法刻蝕工藝, RCA 藥液, 氫氟酸，氫氟酸/硝酸混合液, 配方藥液等

伯努利夾盤可對晶片背面全面保護

*多可回收2種化學藥液


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