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KYKY-EM80系列超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡

一、產(chǎn)品簡介

EM80系列場發(fā)射掃描電鏡定位為經(jīng)濟型肖特基熱場發(fā)射掃描電鏡，拓展性豐富，性價比高，廣泛應用于材料科學、生物學、醫(yī)學、化學、環(huán)境科學等多個領域。

二、產(chǎn)品特點

l 肖特基場發(fā)射電子槍

l 多級高性能透鏡系統(tǒng)

l 束流穩(wěn)定性高

l 可定制超大樣品倉

l 操作簡便

l 拓展性豐富性價比高

三、技術(shù)參數(shù)

四、產(chǎn)品功能

1、二次電子探測器

高信噪比，高帶寬 · 大景深，表征樣品表面形貌結(jié)構(gòu)

2、不同探測器同時成像

· 顯示SE，BSE 雙通道圖像

· 可任意設置不同探

· BSE探測器，反應樣品表面的成分特征

3、陰極熒光成像

4 大圖拼接

· 樣品區(qū)全域視場矩陣自動規(guī)劃，拍照流程無需人工干預

· 百千張級數(shù)據(jù)量快速拼接實時預覽，構(gòu)建全域清晰掃描大圖

5 粒度分析

采用深度學習的復合圖像處理算法，自動識別比例尺，精準識別圖像中的顆粒，多種形態(tài)參數(shù)的統(tǒng)計與導出，

摻鋁碳酸鈷

多種形態(tài)參數(shù)結(jié)果

多種形態(tài)數(shù)據(jù)輸出

6 關鍵尺寸測量

具備距離，角度，水平線/垂直線/圓徑測算等，豐富的圖像測量功能

五、定制能力

1、電子束曝光（EBL）

l 功能：基于掃描電鏡的電子束曝光系統(tǒng)（EBL），能夠精確地控制電子束的掃描路徑和能量沉積，從而實現(xiàn)高分辨率的圖形曝光。該系統(tǒng)采用先進的電子束掃描控制技術(shù)，支持靈活多樣的圖案設計和精確控制，不僅具有電子束曝光功能，還保留了原SEM 的觀測功能，這使得用戶可以在同一臺設備上完成樣品的觀測和加工，提高了工作效率和便利性。

l 參數(shù)：*小束斑 優(yōu)于5nm;  探針電流 1pA~20nA;  線寬 優(yōu)于15nm

l 應用場景

科研教學、微電子制造、原型器件開發(fā)、納米材料制備、生物醫(yī)療研究

l 應用案例

二維周期陣列結(jié)構(gòu)加工

50nm線寬/周期200nm光柵結(jié)構(gòu)

60nm直徑點陣周期結(jié)構(gòu)

聲表面波碳納米管諧振器耦合器件

場效應晶體管電極

2、真空互聯(lián)

真空互聯(lián)掃描電鏡用于對樣品車傳遞過來的產(chǎn)品進行自動檢測，分析其表面晶粒形態(tài)大小分布等信息，評估其薄膜的膜質(zhì)量情況。

真空互聯(lián)系統(tǒng)可以在真空狀態(tài)下對樣品進行預處理，并傳遞到掃描電鏡內(nèi)進行觀測.

自動檢測和反饋系統(tǒng)，對樣品標簽、位置狀態(tài)、樣品交接進行監(jiān)控和記錄，可以清晰的了解樣品傳輸狀況。

3、激光聯(lián)用-超快電鏡

l 功能：

超快電鏡利用激光、電場等外界刺激使樣品達到激發(fā)態(tài)。使用時間延遲可調(diào)的另一束激光作用于電鏡燈絲，產(chǎn)生脈沖電子束照射于樣品表面進而收集表面逸出的二次電子對激發(fā)瞬態(tài)進行表征。

l 掃描電鏡電子槍及發(fā)射陰極改造

改造后的電子槍 

（1）激光入口 ；

（2）探測激光引入示意圖，與電子束方向呈一定角度夾角;

（3）從激光入射口可見陰極工作時的發(fā)射狀態(tài)。

l 應用領域

超快結(jié)構(gòu)動力學，新型光場隱含物態(tài)調(diào)控、自由電子量子光學等。