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快速熱化學氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)
快速熱化學氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)

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韓國

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上海載德半導體技術有限公司

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快速熱化學氣相沉積系統(tǒng) (RTCVD)

生產(chǎn)商：韓國Ecopia

RTCVD快速熱化學氣相沉積設備廣泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常見半導體薄膜的沉積和制備。

性能和特點：

- 溫度范圍：室溫 ~ 1500°C;

- 升溫速度：200°C/s;

- 氣體混合能力(帶有質(zhì)量流量計);

- 真空度：~10-6Torr;

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