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KSI超聲波掃描(SAM)
KSI超聲波掃描(SAM)

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產(chǎn)地

德國

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新耕(上海)貿(mào)易有限公司

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應用:

Material Science

Semiconductor—Ingots/Wafer/Packaging/PCBs/LEDs/Sensor/Other MEMS

Aerospace

Automotive

Pharma & Biotech

技術參數(shù):

德國KSI提供了**的第二代超聲波掃描(SAM), 擁有強大的設計應用團隊,在超聲波領域超過20年的經(jīng)驗。

其設備主要是針對半導體器件 ,芯片,材料內(nèi)部的失效分析。其可以檢查到材料內(nèi)部的晶格結構,雜質顆粒,

夾雜物,沉淀物, 內(nèi)部裂紋,分層缺陷,空洞,氣泡及空隙等.

主要特點:

非破壞性、無損傷檢測內(nèi)部結構;

可分層掃描、多層掃描;

實施、直觀的圖像及分析;

缺陷的測量及百分比的計算;

可顯示材料內(nèi)部的三維圖像;

對人體是沒有傷害的;

可檢測各種缺陷(裂紋、分層、夾雜物、附著物、空洞、孔洞、晶界邊界等)

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