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使用氣流磨制備高純二氧化硅(石英砂)時的注意事項

使用氣流磨制備高純二氧化硅(石英砂)時的注意事項
眾金粉體  2025-07-01  |  閱讀:153

使用氣流磨制備高純二氧化硅(石英砂)時,需特別注意以下關鍵事項,以確保產品質量、設備安全和工藝效率:


1. 原料預處理

純度控制:原料需預先提純(如酸洗、磁選)以減少金屬雜質(Fe、Al等),避免污染最終產品。

干燥處理:確保原料含水量低(<0.1%),防止結塊或粘附在磨腔內。


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氣流粉碎機.png

2. 氣流磨參數優(yōu)化

氣流壓力與速度:  

壓力通常需 0.7~1.2 MPa,過高會導致過粉碎,增加能耗;過低則粒度分布不均。  

使用惰性氣體(如氮氣)可避免氧化或濕度影響。

分級輪轉速:調整轉速以控制目標粒徑(如D50=1~10 μm),避免過細粉末團聚。

進料速率:需均勻穩(wěn)定,過快會導致堵塞,過慢降低效率。


3. 防污染措施

材質選擇:磨腔、管道、分級輪需采用 **高純陶瓷(如氧化鋯)或聚氨酯內襯,減少金屬磨損引入雜質。

密封性:系統(tǒng)需嚴格密封,防止環(huán)境粉塵污染,尤其對電子級(≥99.99%純度)產品。


4. 粉塵與靜電控制

防爆設計:二氧化硅粉塵具有爆炸性,需配備防爆電機、泄爆片及惰性氣體保護。

抗靜電措施:管道接地,使用抗靜電濾袋(如覆膜滌綸),避免粉末吸附。


5. 后處理與儲存

表面改性:必要時用硅烷偶聯劑處理,防止團聚。

包裝環(huán)境:在干燥惰性氣氛(如氮氣手套箱)中包裝,避免吸濕。


6. 設備維護與監(jiān)測

定期清理:停機后徹底清除殘留粉末,防止交叉污染。

在線檢測:采用激光粒度儀實時監(jiān)控粒徑,及時調整參數。


7.常見問題與對策

問題:產品純度下降  ;

對策:檢查磨損部件(如噴嘴、內襯),更換為高純材質。

問題:粒度分布變寬  

對策:校準分級輪轉速或檢查氣流穩(wěn)定性。通過嚴格控制上述環(huán)節(jié),可高效制備高純度、窄粒度分布的二氧化硅粉末,滿足光伏、半導體或高端陶瓷等領域的應用需求。


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