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LD系列單端連續(xù)芯片鍍膜生產(chǎn)線
LD系列單端連續(xù)芯片鍍膜生產(chǎn)線

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

LD系列單端連續(xù)芯片鍍膜生產(chǎn)線

品牌

辰皓真空

產(chǎn)地

湖南

樣本

暫無
湖南辰皓真空科技有限公司

高級(jí)會(huì)員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

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設(shè)備特點(diǎn)

成膜好:采用磁控濺射方式,沉積速率快,膜層均勻致密、內(nèi)應(yīng)力小;

擴(kuò)展強(qiáng):采用模塊化設(shè)計(jì),根據(jù)不同的工藝要求,可以靈活配備鍍膜腔體;

適用廣:設(shè)備可以配備不同的磁控陰極,如圓柱靶、平面靶、圓片靶;

產(chǎn)量大:連續(xù)鍍膜產(chǎn)線,生產(chǎn)效率高。

應(yīng)用領(lǐng)域

可用于半導(dǎo)體表面制備各類金屬薄膜。

創(chuàng)新點(diǎn)

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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