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桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體品牌
成 越產(chǎn)地
河南樣本
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簡(jiǎn)單介紹：
本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
詳情介紹：
本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。 本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄；腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良，造型小巧，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡(jiǎn)單，操作界面直觀，利于上手。
應(yīng)用領(lǐng)域：
本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱 | 桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSZ254-II-DC-SS | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ100mm |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配兩支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ254mm X 300mm |
觀察窗口 | 前置式 | |
腔體材料 | 304不銹鋼 | |
開啟方式 | 上蓋開啟及前開門 | |
真空系統(tǒng) | 前級(jí)泵 | 雙極旋片泵 |
分子泵 | 大抽速渦輪分子泵 | |
真空測(cè)量 | 復(fù)合真空計(jì)，量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | ISO63 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 前級(jí)泵抽速1.1L/s | |
輸出功率 | 直流電源500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 2kW | |
整機(jī)尺寸 | 710*480*580 | |
暫無數(shù)據(jù)！
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