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化學濕法清洗設備
適用于晶圓CMP后清洗
全自動的高自動化形式（濕進干出）
支持 6"、4"晶圓清洗
配備自凈功能
內外環(huán)境隔離：干濕分離
晶圓缺失檢測報警系統
旋干及熱N? 吹干系統
暫無數據！
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