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HON-H-S/W/VVV系列氫氣純化器品牌
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系列 Series | 雜質(zhì) Impurity | 入口 Inlet（ppm） | 出口 Outlet（ppb） |
HON-H-S/W/VVV | O2 | ＜3 | ＜1 |
N2 | ＜1 | -- | |
CO | ＜1 | ＜1 | |
CO2 | ＜1 | ＜1 | |
THC | ＜1 | -- | |
H2O | ＜3 | ＜1 | |
PARTICLES | -- | ≤10pcs/m3, 0.003μm | |
Pressure Drop | ＜1bar | ||
Flow | 10～10000Nm3/h | ||
工藝介紹：
（1）通過(guò)物理和化學(xué)吸附方式脫除O2、CO、CO2、H2O等雜質(zhì)。
（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復(fù)使用。
（3）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
集成電路制造行業(yè)
半導(dǎo)體、LED、激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)
氣體行業(yè)
工藝介紹：
（1）通過(guò)物理和化學(xué)吸附方式脫除O2、CO、CO2、H2O等雜質(zhì)。
（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復(fù)使用。
（3）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
集成電路制造行業(yè)
半導(dǎo)體、LED、激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)
氣體行業(yè)
工藝介紹：
（1）通過(guò)物理和化學(xué)吸附方式脫除O2、CO、CO2、H2O等雜質(zhì)。
（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復(fù)使用。
（3）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
集成電路制造行業(yè)
半導(dǎo)體、LED、激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)
氣體行業(yè)
工藝介紹：
（1）通過(guò)物理和化學(xué)吸附方式脫除O2、CO、CO2、H2O等雜質(zhì)。
（2）吸附反應(yīng)器吸附飽和后可通氫加熱再生，反復(fù)使用。
（3）多柱交替吸附、再生，可連續(xù)供氣。
應(yīng)用領(lǐng)域：
集成電路制造行業(yè)
半導(dǎo)體、LED、激光、太陽(yáng)能光伏行業(yè)
氣體行業(yè)
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