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本設備為全自動Φ200mm(替換卡盤可兼容Φ150mm)晶圓研磨設備,采用晶圓與砂輪分別自旋轉的加工原理,并配置有高精度核心功能部件,具有**的晶圓磨削質量;采用兩級晶圓傳輸機械手及高集成度的自動化裝置,整體設備結構緊湊,生產效率高。
晶澳團隊率先突破 SiC 龍頭企業(yè)減薄設備技術,打破海外壟斷。憑借 “技術銷售雙輪驅動”,把工藝經驗轉化為 “設備調試 + 參數(shù)優(yōu)化” 一體化方案。通過全生命周期服務(覆蓋設備選型、工藝驗證、數(shù)據(jù)驅動良率提升)和24小時快速響應體系,贏得市場、客戶認可。團隊憑借多語言優(yōu)勢緊跟國際技術,并通過“設備+專用耗材”生態(tài)鏈整合,持續(xù)鞏固在第三代半導體裝備領域的**地位。 目前設備加工能力TTV約2um, WTW±1um, 損傷層2.5um, 并將持續(xù)優(yōu)化提升。 晶澳科技,未來可期! 配置雙研磨主軸(粗/精可選),雙磨削卡盤工位; 采用Infeed研磨法,配備IPG厚度測量,可在測量加工過程中晶圓的厚度; 為了應對8寸SIC,砂輪主軸配置11Kw高輸出主軸電機; 配備wafer前置/后置背面清洗; 標配Φ250粗/精磨砂輪砥石。
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