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濺鍍系統(tǒng)
? 濺鍍系統(tǒng)?主要由以下幾個(gè)部分組成：真空室、排氣系統(tǒng)、濺射源和控制系統(tǒng)。其工作原理分為抽真空、輝光放電和濺射三個(gè)階段。首先，通過(guò)抽氣系統(tǒng)將真空室內(nèi)的空氣抽出，達(dá)到所需的真空度；然后，通過(guò)高壓電離室內(nèi)氣體產(chǎn)生等離子體；*后，高能粒子轟擊靶材表面，使靶材表面的原子被濺射出來(lái)，沉積在基片上形成所需膜層?
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