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4英寸半絕緣型襯底
4英寸半絕緣型襯底

參考價格

面議

型號

4英寸半絕緣型襯底

品牌

天科合達

產(chǎn)地

北京

樣本

暫無
北京天科合達半導體股份有限公司

會員

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第2年

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生產(chǎn)商

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4英寸半絕緣型襯底

技術成果

零微管密度控制技術

單一晶型控制技術

包裹物控制技術

電阻率控制技術

雜質調控技術

襯底臺階寬度控制技術

直徑99.5 mm-100.0 mm
晶型4H
厚度500 μm±15 μm
晶片方向無偏轉角度:向<0001>偏轉 ± 0.5° 
微管密度≤ 1 cm-2
電阻率≥ 1 E10 Ω·cm
主定位邊方向{10-10} ±5.0°
主定位邊長度32.5 mm ± 2.0 mm
次定位邊長度18.0 mm ± 2.0 mm
次定位邊方向硅面朝上:從主定位邊順時針旋轉 90° ± 5.0° 
邊緣去除3 mm
局部厚度變化/總厚度變化/彎曲度/翹曲度≤2.5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm
表面粗糙度拋光 Ra≤ 1 nm
CMP Ra≤ 0.2 nm
邊緣裂紋(強光燈觀測)——
六方空洞(強光燈觀測)累計面積 ≤ 0.05%
多型(強光燈觀測)——
目測包裹物(日光燈觀測)累計面積 ≤ 0.05%
硅面劃痕(強光燈觀測)——
崩邊(強光燈觀測)不允許寬度≥ 0.2 mm,深度≥ 0.2 mm
硅面污染物(強光燈觀測)——
包裝多片卡塞/單片盒包裝


半絕緣碳化硅襯底是半絕緣碳化硅晶體經(jīng)過切割、研磨、拋光、清洗等工序加工形成的單晶薄片。單晶襯底薄片作為第三代半導體的重要原材料,經(jīng)過異質外延生長、器件制造等環(huán)節(jié),可制成碳化硅基射頻器件,是第三代半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要基礎材料。為滿足客戶對4英寸產(chǎn)品的需求,公司為國內(nèi)外客戶批量提供具有高性價比的4英寸半絕緣型襯底產(chǎn)品。

下游產(chǎn)品與應用

通過在半絕緣型碳化硅襯底上生長氮化鎵異質外延層,制得碳化硅基氮化鎵外延片,通過晶圓制造、封裝檢測,可進一步制成微波射頻器件,主要應用于射頻領域,例如5G通訊、相控陣雷達、無線電探測器等。


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